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透射电子显微镜（TEM）样品制备是当代材料科学照看的首要设施牛奶姐姐 足交。

透射电子显微镜（TEM）样品制备

1. 粉末样品：适用于粉末方法的不雅察、粒度分析以及结构和因素的分析。

2. 薄膜样品：适用于照看样品的里面组织结构、因素、位错摆设偏激密度，以及晶体相的取向关系。

3. 名义复制型与萃取复制型样品：适用于金相组织的不雅察、断口态状分析、变形条纹不雅察、第二相的方法和分散照看。

TEM使命机制胪陈

透射电子显微镜的使命旨趣是运用电子束穿透超薄样品，样品原子与电子相互作用后产生散射，形成具有不同散射角的图像。这些散射角与样品的密度和厚度相关，从而在图像中形成明暗对比。

TEM的分离率可达到0.1至0.2纳米，放大倍数从数万至百万倍，挑升用于不雅察小于0.2微米的微不雅结构，即“亚显微结构”。与光学显微镜不同，TEM使用电子束四肢光源，摄取磁透镜聚焦，由于电子波长极短，苦守布拉格散射方程，因此TEM不仅分离率高，还具备结构分析的智商。

FIB制样本事偏激上风

聚焦离子束（FIB）制样本事通过电透镜将离子源产生的离子束（主如果镓离子，也包括氦和氖离子源）加快并聚焦，作用于样品名义，末端材料的精准铣削、千里积、注入和成像。

FIB制样濒临的挑战

尽管FIB本事在样品制备方面具有显耀上风，但它也存在一些局限性。使用离子束可能会对样品酿成未必损害，蜕变样品名义特质。

举例，在30kV的镓离子束作用下，大部分材料名义约30纳米深度界限内齐会受到镓注入的影响，导致原有原子结构的蜕变或封闭。这种非晶层或损害层在FIB制备的TEM样品中尤为彰着，可能影响最终的不雅察收敛。因此，照看东说念主员在使用FIB制样时需极端正经这种潜在损害，并遴选按次以最猛进度保留样品的原始结构和特质。

优化FIB制样战术

1. 气体援助蚀刻：天然擢升了研磨速度，但增多了结晶-非晶界面的约略度，可能进一步损害TEM图像。

2. 粗笨量FIB：在这些能量下，蚀刻速度和位置分离率会受到影响，但束能量的减少不错使损害深度最小化。

3. 氩离子研磨精修：原始的FIB损害层牛奶姐姐 足交，不错通过氩离子精修去除，去除的成果取决于氩离子的能量、角度和时刻。通过这些方法，不错在一定进度上松开FIB制样经由中可能引起的样品损害，擢升样品制备的质料。